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ALD技术展示了在太空条件下对材料表面的有效保护

发布时间:2026/7/77

Picosun原子层沉积(ALD)已被证明是一种有效的解决方案,用于保护近地轨道中原子氧对材料表面的侵蚀。对于被送入太空的物体来说,材料的高耐受性是一项基本要求,因为它们面临着许多侵蚀环境,例如暴露在原子氧中。


欧洲(ESA)的研究人员对派科森提供的各种材料样品进行了测试和分析,以验证保护涂层对原子氧防护的适用性。作为“开放式实验室"测试活动的一部分,该测试在ESTEC TEC-QEE实验室的LEOX设施中进行。这些活动旨在为新入太空业务的中小型企业和研究所提供使用ESA独特的空间环境测试设施的机会,并允许与ESA的研究人员进行合作。


该测试模拟了包括国际空间站(ISS)在内的卫星都会受到的原子氧腐蚀效应。在使用派科森 ALD涂层保护的Kapton®HN聚酰亚胺薄膜、硅片和PCB(印刷电路板)上进行的测试结果清楚地证明了ALD涂层能提供很好的侵蚀保护。测试中使用的薄膜在低温(125°C)下沉积,薄膜相对较薄(20 nm),能够涂覆不同的相关材料。,ALD涂层厚度越薄,相比较厚的涂层能够承受柔性衬底材料所需的更多形变。此外,ALD涂层可应用于覆盖深宽比的3D物体表面。ESTEC进行的分析包括质量测量、扫描电子显微镜(SEM)检测和热光学性能测量,部分样品在试验前后都进行了测试。


“原子氧侵蚀对近地轨道航天器和卫星使用的外部材料的选择有重大影响。派科森ALD在测试中显示出了对原子氧的耐受性,在环境条件下成为非常合适的保护涂层,这当然也适用于柔性材料。"ESA材料物理和化学部门的高级材料工程师Adrian Tighe解释道。


“ALD是一种用于超薄、高度均匀和保形材料层的薄膜涂层方法。它已被证明是在环境下的解决方案和创新生产中的涂层解决方案。如今,从深海底到火星,它们无处不在。"派科森集团工业业务部副总裁Juhana Kostamo说道。


派科森为工业提供的AGILE ALD®(原子层沉积)薄膜涂层解决方案。派科森的ALD解决方案使技术跨越到未来,拥有完整的生产工艺和在该领域的、开拓性的专业知识,可以追溯到该技术的发明本身。如今,PICOSUN®ALD设备已在众多行业的日常生产中使用。派科森总部位于芬兰,在中国大陆、德国、美国、新加坡、中国台湾、韩国和日本设有分公司,在印度和法国设有办事处,并拥有范围的销售和支持网络。更多信息请访问.


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